希捷:披露匹兹堡硬盘研发基地

      希捷科技(Seagate Technology,Inc.)于近日举办了在美国匹兹堡设立了硬盘研发基地。除任该公司首席执行官的Stephen Luczo之外,匹兹堡市市长也出席了仪式。

    


希捷科技首席执行官Stephen Luczo在剪彩

      在已经完成的该研发基地中,来自22个国家的119名研究人员将开发计划在4~10年后投入使用的技术。当前的研究目标为实现1TB/平方英寸的面记录密度。为实现该目标,研究人员将进一步改善垂直记录方式,以及研究热辅助(Assist)方式、晶格介质(Patterned Media)的实用化。

    

      该公司高级副总裁、负责希捷研究部门的Mark Kryder表示,如果达到1TB/平方英寸,则可以推出容量为400GB~800GB的2.5英寸硬盘。在实现1TB/平方英寸之后,将通过热辅助方式实现10TB/平方英寸,然后有可能通过并用多种存储介质达到50TB/平方英寸。首席执行官Stephen Luczo强调了技术开发的重要性:“由于将动态图像内容保存在硬盘中的用途的增加,本公司今后将继续提高记录密度”。此外,首席技术官Tom Porter宣布将于2003年推出用于笔记本电脑等产品的2.5英寸硬盘。

      揭幕仪式上,希捷科技在实验室进行了热辅助方式及晶格介质的简单演示。热辅助方式的演示为利用长型记录方式的3.5英寸的介质,比较了在通过激光加热进行记录及不加热进行记录时的信号强度的不同(图2、3)。晶格介质方面,该公司展示了由Fe(Co)5与Pt(acac)2制成的Fe-Pt膜的TEM照片等。