4寸屏幕+超薄设计 iPhone5新设计图泄露

随着越来越多的消息都将下一代iPhone的发布时间指向今年10月份,而且关于新一代iPhone配置等方面的消息也越来越多,日前ADR工作室再次给我们带来了另人眼前一亮的iPhone概念设计—iPhone Plus,4.3英寸屏幕、后壳使用铝合金材质等。

4寸屏幕+超薄设计 iPhone5新设计图泄露

▲设计图1

iPhone Plus采用超薄无边框设计,其他方面的规格以及特性:使用液态金属,4.3英寸Retina屏幕是双层碱性铝硅酸盐玻璃薄片、使用In-Cell技术,A6四核处理器、1000万像素后置摄像头、200万像素前置摄像头、后置运动传感器,机身顶部有微型投影机、电容式Home键。

4寸屏幕+超薄设计 iPhone5新设计图泄露

▲背部设计图

当然这个概念设计更多的是设计者本身的意愿,比如4.3英寸屏幕,苹果在iPhone合适尺寸方面做了许多研究,可能不会很快改变他们在这方面的立场,使用这么大一个尺寸的屏幕。

另外最近也有消息表示苹果或不会使用电容Home键设计,而仅仅是将Home键设计的更小,让用户无法明显感觉到其存在。以下更多相关图片:

4寸屏幕+超薄设计 iPhone5新设计图泄露

▲采用黑白两色

4寸屏幕+超薄设计 iPhone5新设计图泄露

▲采用5项系技术