铠侠展示了218层的BiCS 8 NAND,密度高性能也高

最近,铠侠展示了BiCS 8 NAND的相关产品。铠侠与西部数据在2023年3月宣布了BiCS 8的出样,这一代NAND采用了CMOS绑定阵列(CBA)技术。

传统上,闪存芯片的制造过程将逻辑电路(CMOS工艺)布置在闪存阵列的外围,随后在阵列之下放置CMOS逻辑电路。然而,这种方法存在一定挑战,因为闪存阵列的高温处理步骤可能会损害CMOS逻辑电路的健康。

得益于近期晶圆绑定技术的进步,新的CBA工艺允许CMOS晶圆和闪存阵列晶圆独立并行加工,然后,再进行拼接。

BiCS 8 3D NAND有218层,与之前的BiCS 5(112层)和BiCS 6(162层)相比,层数大幅增加。

虽然铠侠跳过了BiCS 7这一代,但BiCS 8继承了BiCS 6的四平面电荷捕获结构。该代产品的TLC版本容量为1 Tbit,而QLC版本则有1 Tbit和2 Tbit两种选择。

虽然218层的数量相比竞争对手的最新产品略显逊色,但铠侠通过横向缩放和单元缩小,使其在位密度和运行速度上仍具有竞争力(达到了3200 MT/s)。

相比之下,美光的最新NAND G9拥有276层,其TLC模式下的位密度为21 Gbit/mm²,运行速度可达3600 MT/s。不过,美光的232层NAND运行速度仅为2400 MT/s,位密度为14.6 Gbit/mm²。

值得一提的是,CBA混合绑定工艺相比其他厂商的现行工艺具有一定优势,包括美光的CMOS阵列下(CuA)和SK 海力士的4D PUC(芯片下方外围)技术。预计其他NAND供应商未来也将逐步转向类似于铠侠所使用的混合绑定技术。

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https://www.anandtech.com/show/21519/kioxia-details-bics-8-at-fms-2024