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标签:泛林集团

通过工艺建模进行后段制程金属方案分析-DOIT-数据产业媒体与服务平台

通过工艺建模进行后段制程金属方案分析

虚拟半导体工艺建模是研究金属线设计选择更为经济、快捷的方法 l 由于阻挡层相对尺寸及电阻率增加问题,半导体行业正在寻找替代铜的金属线材料。 l 在较小尺寸中,钌的性能优于铜和钴,因此是较有潜力的替代材料。 随着互连尺寸缩...

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使用SEMulator3D进行虚拟工艺故障排除和研究-DOIT-数据产业媒体与服务平台

使用SEMulator3D进行虚拟工艺故障排除和研究

SEMulator3D 工艺建模在开发早期识别工艺和设计问题,减少了开发延迟、晶圆制造成本和上市时间 现代半导体工艺极其复杂,包含成百上千个互相影响的独立工艺步骤。在开发这些工艺步骤时,上游和下游的工艺模块之间常出现不可预期的障碍,造成开发...

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泛林集团如何助力触觉技术的实现-DOIT-数据产业媒体与服务平台

泛林集团如何助力触觉技术的实现

在掺钪氮化铝脉冲激光沉积领域的创新或成为推动无铅压电触觉设备大批量生产的关键 视频游戏、虚拟现实和增强现实的兴起正在推动触觉技术需求的增长 泛林集团的脉冲激光沉积(PLD)技术可助力下一代触觉技术 试着想象一场沉浸式的虚拟体验:在探索数字世...

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异构集成推动面板制程设备(驱动器)的改变-DOIT-数据产业媒体与服务平台

异构集成推动面板制程设备(驱动器)的改变

——对系统级封装(SiP)的需求将基板设计推向更小的特征(类似于扇出型面板级封装FO-PLP) ——需求趋同使得面板级制程系统的研发成本得以共享 晶体管微缩成本的不断提升,促使行业寻找创新方法,更新迭代提升芯片和系统的性能。正因此,异构集成...

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泛林集团:引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容-DOIT-数据产业媒体与服务平台

泛林集团:引入空气间隙以减少前道工序中的寄生电容

减少栅极金属和晶体管的源极/漏极接触之间的寄生电容可以减少器件的开关延迟。减少寄生电容的方法之一是设法降低栅极和源极/漏极之间材料层的有效介电常数,这可以通过在该位置的介电材料中引入空气间隙来实现。这种类型的方式过去已经用于后道工序 (BE...

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